大宮（A03）グループの後藤大和さん（M2）が「第49回反応と合成の進歩シンポジウム」において優秀発表賞（口頭発表賞）を受賞しました。
学会名：第49回反応と合成の進歩シンポジウム
会期：2023年11月6日~7日
演題：N-ヘテロ環カルベン/光酸化還元協働触媒による電子豊富アレーンのメタ位選択的アシル化反応